在做檢測(cè)時(shí),有不少關(guān)于“石墨烯檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)包括哪些”的問(wèn)題,這里百檢網(wǎng)給大家簡(jiǎn)單解答一下這個(gè)問(wèn)題。

石墨烯檢測(cè)有哪些執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)？第三方檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)是什么？

石墨烯執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)包括：

1、GB/T 40066-2021《納米技術(shù) 氧化石墨烯厚度測(cè)量 原子力顯微鏡法》

2、GB/T 41068-2021《納米技術(shù) 石墨烯粉體中水溶性陰離子含量的測(cè)定 離子色譜法》

3、GB/T 43598-2023《納米技術(shù) 石墨烯粉體氧含量和碳氧比的測(cè)定 X射線(xiàn)光電子能譜法》

4、GB/T 43341-2023《納米技術(shù) 石墨烯的缺陷濃度測(cè)量 拉曼光譜法》

5、GB/T 40071-2021《納米技術(shù) 石墨烯相關(guān)二維材料的層數(shù)測(cè)量 光學(xué)對(duì)比度法》

石墨烯檢測(cè)國(guó)家執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容介紹

1、GB/T 40066-2021《納米技術(shù) 氧化石墨烯厚度測(cè)量 原子力顯微鏡法》

該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微鏡法（AFM）測(cè)量氧化石墨烯厚度的樣品制備、測(cè)量步驟及結(jié)果計(jì)算等。適用于片徑尺寸不小于300納米的氧化石墨烯厚度的測(cè)量，并且其他二維材料厚度的AFM測(cè)量也可以參照使用。原子力顯微鏡（AFM）是一種能夠用來(lái)研究包括絕緣體在內(nèi)的固體材料表面結(jié)構(gòu)的分析儀器。在石墨烯檢測(cè)中，AFM通過(guò)懸臂上的針尖與石墨烯表面之間的相互作用力來(lái)測(cè)量石墨烯的表面形態(tài)和厚度。當(dāng)針尖與石墨烯表面接觸時(shí)，由于范德華力的作用，懸臂會(huì)產(chǎn)生微小的彎曲或偏移，這些變化會(huì)被AFM系統(tǒng)檢測(cè)并轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號(hào)，從而得到石墨烯的表面形貌和厚度信息。

2、GB/T 41068-2021《納米技術(shù) 石墨烯粉體中水溶性陰離子含量的測(cè)定 離子色譜法》

該標(biāo)準(zhǔn)主要適用于石墨烯粉體中的水溶性氟離子(F-)、氯離子(Cl-)、亞硝酸根離子(NO2-)、溴離子(Br-)、硝酸根離子(NO3-)、硫酸根離子(SO42-)、磷酸根離子(PO43-)等陰離子含量的測(cè)定。離子色譜法是一種高效液相色譜技術(shù)，主要用于無(wú)機(jī)陰離子和陽(yáng)離子的分析。在石墨烯粉體的檢測(cè)中，離子色譜法通過(guò)特定的色譜柱和淋洗液，將樣品中的陰離子分離并依次通過(guò)檢測(cè)器，實(shí)現(xiàn)對(duì)各種陰離子含量的定量測(cè)定。離子色譜法具有靈敏度高、選擇性好、分辨率高、分析速度快等優(yōu)點(diǎn)，能夠同時(shí)測(cè)定多種陰離子，并且適用于復(fù)雜樣品的分析。離子色譜法還具有較好的重現(xiàn)性和穩(wěn)定性，能夠滿(mǎn)足石墨烯粉體檢測(cè)的需求。

3、GB/T 43598-2023《納米技術(shù) 石墨烯粉體氧含量和碳氧比的測(cè)定 X射線(xiàn)光電子能譜法》

該標(biāo)準(zhǔn)主要適用于石墨烯粉體材料中氧含量和碳氧比的測(cè)定。X射線(xiàn)光電子能譜（XPS）是一種表面分析技術(shù)，可以定量分析材料表面的元素組成及其化學(xué)狀態(tài)。當(dāng)X射線(xiàn)照射到石墨烯粉體表面時(shí)，會(huì)激發(fā)出樣品表面原子的內(nèi)層電子或價(jià)電子，被稱(chēng)為光電子。測(cè)量這些光電子的能量和數(shù)量可以確定石墨烯粉體表面的元素組成和化學(xué)狀態(tài)，計(jì)算出氧含量和碳氧比。X射線(xiàn)光電子能譜法具有靈敏度高、分辨率高、分析速度快等優(yōu)點(diǎn)，能夠準(zhǔn)確地測(cè)定石墨烯粉體中的氧含量和碳氧比。準(zhǔn)確測(cè)定石墨烯粉體中的氧含量和碳氧比有助于評(píng)估性能、優(yōu)化生產(chǎn)工藝以及拓展應(yīng)用領(lǐng)域。氧含量和碳氧比的變化會(huì)影響石墨烯材料的電學(xué)、熱學(xué)、力學(xué)等性能，測(cè)定這些參數(shù)可以更好地了解石墨烯材料的性能特點(diǎn)。

4、GB/T 43341-2023《納米技術(shù) 石墨烯的缺陷濃度測(cè)量 拉曼光譜法》

該標(biāo)準(zhǔn)適用于橫向尺寸不小于2μm、物性均勻、表面潔凈的單層石墨烯的點(diǎn)缺陷濃度測(cè)量。拉曼光譜法是一種基于拉曼散射效應(yīng)的光譜分析技術(shù)。當(dāng)激光照射到石墨烯樣品上時(shí)，會(huì)發(fā)生拉曼散射現(xiàn)象，散射光的頻率與入射光不同，這種頻率的變化與石墨烯的分子振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)有關(guān)。分析拉曼光譜數(shù)據(jù)，可以獲取關(guān)于石墨烯結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的重要信息。拉曼光譜法可以清晰地辨認(rèn)出石墨烯中存在的缺陷信息。石墨烯的D帶和G帶是拉曼光譜中的兩個(gè)重要特征峰。D帶代表了石墨烯中存在的缺陷信息，而G帶則代表了石墨烯的完整結(jié)構(gòu)信息。比較D帶和G帶的強(qiáng)度比值，可以大致推斷出石墨烯中的缺陷濃度。準(zhǔn)確測(cè)量石墨烯的缺陷濃度對(duì)于評(píng)估其性能、優(yōu)化生產(chǎn)工藝以及拓展應(yīng)用領(lǐng)域具有重要意義。

5、GB/T 40071-2021《納米技術(shù) 石墨烯相關(guān)二維材料的層數(shù)測(cè)量 光學(xué)對(duì)比度法》

該標(biāo)準(zhǔn)適用于利用機(jī)械剝離法或化學(xué)氣相沉積法（CVD）制得的石墨烯薄片及石墨烯薄膜的層數(shù)測(cè)量。光學(xué)對(duì)比度法通過(guò)測(cè)量石墨烯相關(guān)二維材料在光學(xué)顯微鏡下的對(duì)比度差異來(lái)確定其層數(shù)。主要依賴(lài)于石墨烯層數(shù)的不同會(huì)導(dǎo)致其光學(xué)性質(zhì)的差異。該標(biāo)準(zhǔn)包括反射光譜法和光學(xué)圖片法兩種方法，分別通過(guò)測(cè)量反射光譜的變化和觀察光學(xué)圖片中的對(duì)比度差異來(lái)評(píng)估石墨烯的層數(shù)。石墨烯相關(guān)二維材料的層數(shù)是影響其性能的關(guān)鍵參數(shù)。該標(biāo)準(zhǔn)提供了快速、無(wú)損和高靈敏度的測(cè)量方法，為石墨烯相關(guān)二維材料的生產(chǎn)、應(yīng)用、檢驗(yàn)、流通和科研等領(lǐng)域提供了重要支持。